功能特點：
擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、及大規模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸。
★全中文windows操作界面，可編輯參數，操作方便。
★可保存多條工藝曲線，每條曲線可設置多步。
★工藝曲線的自動運行控制功能。  
★自動運行中可暫停/繼續運行功能。
★工藝中可強制跳到下一個工藝步運行功能。  
★智能升降溫斜率制功能。
★PID參數自整定功能。  
★系統故障的檢測與報警功能。
★智能懸臂推拉舟控制功能。
★停電后斷點繼續運行功能。
★工藝氣體的程序控制功能（電磁閥/質量流量控制器）。
★可根據用戶的特殊要求增減或開發相應的功能。

主要技術指標：
★爐管內徑：￠90~￠300（2英寸~8英寸）  
★恒溫區長度及精度：≤1250mm±0.5（300℃~1290℃）
★控溫儀表：進口高精度控溫儀  
★氣源路數：主管道1~4路  
★氣體種類：N2、H2、O2、HCL等
★氣源控制：MFC或浮子流量計
★推拉舟行程：大2000mm
★推拉舟速度范圍及精度：（20~1000）±2mm/min  
★推拉舟方式：簡易式、懸臂式、SiC硅槳式
★冷卻方式：水冷+風冷  
★工控機：工控機控制
設備特性：
具有多條工藝曲線，調用方便快捷；運行中，具有停電記憶功能觸摸微機界面，操作方便；具有超溫保護功能 。