設備用途：用于大規(guī)模集成電路、電力電子、光    電器件、光導纖維等行業(yè)的氧化、擴散、燒結(jié)、合金等工藝。

設備特點：單元組合方式。根據(jù)工藝的不同，可以在主機的基礎上配氣源柜、超凈工作臺、懸臂推拉舟等。    

主要技術指標：

★ 爐管數(shù)：1～4管

★ 配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸)

★ 恒溫區(qū)長度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃)  760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)

★ 單點穩(wěn)定性： ±1.0℃/24h (300～800℃)    ±0.5℃/24h (800～1280℃)

★ 氣源路數(shù)：    ≤7路，可配恒溫源瓶、氫氧合成點火器

★ 氣體控制：    浮子/質(zhì)量流量計

★ 懸臂舟參數(shù)： 速度：    20～1000 mm/min    大行程：2000 mm    定位精度：±1 mm    大載荷：17 Kg

★ 超凈工作臺： 凈化等級：100級（萬級廠房）

噪音：    ≤62dB（A）

振動：    ≤3μm
晨立6"新擴散爐設備新鮮出爐,技術和質(zhì)量已達國際水平,受到半導體設備制造企業(yè)和半導體行業(yè)高度關注.可完全替代國外同規(guī)格產(chǎn)品滿足不同工藝的要求.