立式擴散爐

設(shè)備用途：

  CL系列的立式擴散爐為我公司根據(jù)客戶需求定制的設(shè)備，用于太陽能電池片生產(chǎn)過程中對硅片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝，該設(shè)備具有：關(guān)鍵部件進口、自動化程度高、溫度均勻、控制穩(wěn)定、壽命長等特點，是理想的科研及生產(chǎn)設(shè)備。

設(shè)備主要技術(shù)指標(biāo)：

1. 外型形式：單管立式，加熱；爐體和石英管可單獨自動升降定位

2. 硅片尺寸：156*156方片/準(zhǔn)方片

3. 工作溫度范圍：400-1200℃

4. 恒溫區(qū)精度：±0.5℃/300mm

5. 恒溫區(qū)長度：≥300mm，單次可裝載10片156*156方形硅片，背靠背裝片模式，配石英舟

6. 擴散方式：設(shè)備配置真空系統(tǒng)，支持負(fù)壓擴散方式

7. 氣路系統(tǒng)：三路氣體系統(tǒng)，采用進口MKS質(zhì)量流量計、氣動閥、等進口部件

8. 溫度控制系統(tǒng)：PLC+觸摸屏可編程控制方式，自動加手動可方便切換，溫控系統(tǒng)采用進口溫控儀，溫度、流按工藝自動調(diào)節(jié)

9. 報警及保護：超溫、斷偶、缺水及真空異常系統(tǒng)自動報警及保護

10. 尾氣處理：設(shè)備配備尾氣處理系統(tǒng)，采用溶液吸收發(fā)吸收尾氣中的有害成分

11.冷卻系統(tǒng)：設(shè)備配有冷水系統(tǒng)，用于保護密封裝置及冷卻加熱器外殼

我公司可根據(jù)客戶要求，專業(yè)定制各式擴散爐、退火爐、燒結(jié)爐、真空焊接爐、CVD爐、加熱電爐及加熱裝置等，歡迎廣大客戶來電咨詢。