產品概述

、靈活性臺式全譜直讀光譜儀
JS-GP891型臺式全譜直讀光譜儀流線型全新設計的桌面光譜儀，滿足冶煉、金屬制造和機械加工的用戶要求，采用全電腦控制全數字火花光源，運用CCD檢測技術及的真空光室可測定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量，實現全譜分析。測定結果，重現性及長期穩定性；
  產品配置及特點

 1、 采用設計的真空光室可測定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量，測定結果，重現性及長期穩定性。
  2、 的真空光學室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護方便快捷。
  3、光學系統自動進行譜線掃描，自動光路校準，確保譜線接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。
  4、的激發臺及氬氣氣路設計，大大降低了氬氣使用量。靈活的樣品夾設計，以滿足客戶現場的各種形狀大小的樣品分析。
  5、不增加硬件設施的情況下，即可實現多基體分析。相比光電倍增管光譜儀可大大降低客戶使用成本及使用范圍。
  6、采用國際先進的噴射電極技術。在激發狀態下，電極周圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發過程中激發點周圍不會與外界空氣接觸，提高激發精度；

 7、配上的光譜操作軟件完全兼容于windows系統。同時可以根據客戶需求配備各種語言版本。軟件操作簡單即使沒有任何光譜儀知識及操作經驗的人員只需經過簡單的知識培訓即可上手使用。
  8、采用FPGA、DSP及ARM處理器，具有速數據采集分析功能，并能自動實時監測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、、激發光源等模塊的運行狀況。
  9、全數字化等等離子激發光源，超穩定能量釋放在氬氣環境中激發樣品。全數字激發脈沖，確保激發樣品等離子體能量分辨率和高穩定輸出。滿足各種不同材料的激發要求。
 10、樣品激發臺采用銅火花臺底座，鎢材料電極；銅火花臺底座為激發臺提供較好的散熱及堅固等特性，同時鎢電極使用壽命長，耐高溫等特性也提高了激發的性能；電極自吹掃功能的設計，為激發創造了良好的環境，也使激發臺清潔電極更加容易。

分析基體 Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
光學結構 帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統
波長范圍 160-650nm
焦距 400mm
光柵刻線 3000條/mm
探測器 CCD陣列,每塊CCD 3,648 像素，
CCD像素分辨率 6pm
電極 鎢材噴射電極
分析間隙 樣品臺分析間隙：4mm
光源類型 全新可調節數字化光源，高能預燃技術（HEPS）
激發頻率 100-1000Hz
大放電電流 400A
真空系統 真空軟件自動控制、監測

技術參數

、靈活性臺式全譜直讀光譜儀
TY9000型臺式全譜直讀光譜儀流線型全新設計的桌面光譜儀，滿足冶煉、金屬制造和機械加工的用戶要求，采用全電腦控制全數字火花光源，運用CCD檢測技術及的真空光室可測定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量，實現全譜分析。測定結果，重現性及長期穩定性；
  產品配置及特點

  1、 采用設計的真空光室可測定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量，測定結果，重現性及長期穩定性。
  2、 的真空光學室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護方便快捷。
  3、光學系統自動進行譜線掃描，自動光路校準，確保譜線接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。
  4、的激發臺及氬氣氣路設計，大大降低了氬氣使用量。靈活的樣品夾設計，以滿足客戶現場的各種形狀大小的樣品分析。
  5、不增加硬件設施的情況下，即可實現多基體分析。相比光電倍增管光譜儀可大大降低客戶使用成本及使用范圍。
  6、采用國際先進的噴射電極技術。在激發狀態下，電極周圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發過程中激發點周圍不會與外界空氣接觸，提高激發精度；配上
  7、的光譜操作軟件完全兼容于windows系統。同時可以根據客戶需求配備各種語言版本。軟件操作簡單即使沒有任何光譜儀知識及操作經驗的人員只需經過簡單的知識培訓即可上手使用。
  8、采用FPGA、DSP及ARM處理器，具有速數據采集分析功能，并能自動實時監測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、、激發光源等模塊的運行狀況。
  9、全數字化等等離子激發光源，超穩定能量釋放在氬氣環境中激發樣品。全數字激發脈沖，確保激發樣品等離子體能量分辨率和高穩定輸出。滿足各種不同材料的激發要求。
 10、樣品激發臺采用銅火花臺底座，鎢材料電極；銅火花臺底座為激發臺提供較好的散熱及堅固等特性，同時鎢電極使用壽命長，耐高溫等特性也提高了激發的性能；電極自吹掃功能的設計，為激發創造了良好的環境，也使激發臺清潔電極更加容易。

分析基體： Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
光學結構： 帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統
波長范圍： 160-650nm
焦距 ：400mm
光柵刻線 ：3000條/mm
探測器 ：CCD陣列
電極： 鎢材噴射電極
分析間隙 ：樣品臺分析間隙：3.4mm
光源類型： 全新可調節數字化光源，高能預燃技術（HEPS）
激發頻率 ：100-1000Hz
大放電電流： 400A
真空系統： 真空軟件自動控制、監測